半導(dǎo)體清洗機(jī)產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代電子工業(yè)的核心，而半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)是硅材料工業(yè)。雖然有各種各樣新型的半導(dǎo)體材料不斷出現(xiàn)，但 90%以上的半導(dǎo)體器件和電路，尤其是超大規(guī)模集成電路（ULSI）都是制作在高純優(yōu)質(zhì)的硅單晶拋光片和外延片上的。
　　硅片清洗對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)的重要性早在50年代初就已引起人們的高度重視，這是因?yàn)楣杵砻娴奈廴疚飼?huì)嚴(yán)重影響器件的性能、可靠性、和成品率。隨著微電子技術(shù)的飛速發(fā)展以及人們對(duì)原料要求的提高，污染物對(duì)器件的影響也愈加突出。
　　20世紀(jì)70年代在單通道電子倍增器基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)一種多通道電子倍增器。微通道板具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、增益高、時(shí)間響應(yīng)快和空間成像等特點(diǎn)，因而得到廣泛應(yīng)。它主要應(yīng)用于各種類(lèi)型的像增強(qiáng)器、夜視儀、量子位置探測(cè)器、射線(xiàn)放大器、場(chǎng)離子顯微鏡、超快速寬頻帶示波器、光電倍增器等。
　　微通道板是一種多陣列的電子倍增器,是微光像增強(qiáng)器的核心部件。MCP的制作工藝周期長(zhǎng)且復(fù)雜,表觀(guān)疵病是制約MCP成品率的關(guān)鍵因素之一。
　　在MCP的工藝制造過(guò)程中,不可避免遭到塵埃、金屬、有機(jī)物和無(wú)機(jī)物的污染。這些污染很容易造成其表面缺陷及孔內(nèi)污垢,產(chǎn)生發(fā)射點(diǎn)、黑點(diǎn)、暗斑等,導(dǎo)致MCP的良品率下降,使得管子質(zhì)量不穩(wěn)定以至失效,因此在MCP的制造過(guò)程中利用超聲波清洗技術(shù)去除污染物十分重要。
　　標(biāo)簽：半導(dǎo)體清洗機(jī)