等離子清洗機(jī)和超聲波清洗機(jī)的主要區(qū)別等離子清洗是干式清洗，超聲波清洗是濕法清洗，在經(jīng)過(guò)等離子清洗以后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。

　　等離子清洗在完成清洗去污的同時(shí)，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤(rùn)濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

　　雖然等離子清洗機(jī)表面上比超聲波清洗機(jī)更加智能化，但是還有很多缺點(diǎn)需要提示，比如放電氣壓高帶來(lái)的問(wèn)題是等離子體局域化比較嚴(yán)重，縱深清洗比較差，不利于多層面的大尺度的清洗處理，而且微波電磁場(chǎng)對(duì)電子元器件多少會(huì)有一定電磁輻射作用，有可能會(huì)造成電子元器件的擊穿損傷，后就是設(shè)備造價(jià)高，維修保養(yǎng)不是很方便。

　　標(biāo)簽：半導(dǎo)體清洗機(jī)